晶圆镀铟柱Pillar：操作电流密度范围广，镀层均匀，不受被镀物几何形状的影响。
操作条件
参 数
范 围
最 佳 值
铟金属
40 - 60 g/L
50 g/L
甲基磺酸
47 - 67 g/L
57 g/L
温度
40 – 60 ℃
50 ℃
REM-7397
40 - 60 ml/L
50 ml/L
溶液搅动
强力搅动
阴极电流密度
5 - 60 ASD
依设备及产品而定
阳极：阴极比
1:1 - 6:1
沉积速率
2 到 3um/min(10ASD)
